1、燒堿系統工藝簡介

　　燒堿生產系統主要包括：一次鹽水工序、二次鹽水工序、電解工序、脫氯工序，氯氫處理工序，氯化氫合成工序。該公司一次鹽水工序采用預處理器+HW膜處理工藝和無機膜處理工藝，二次鹽水、電解、脫氯工序采用螯合樹脂二次鹽水精制工藝及離子膜電解工藝，氯化氫合成工序采用二合一蒸汽合成爐。

　　2、廢水來源及利用方向

　　該公司燒堿生產系統廢水主要來源：螯合樹脂塔再生廢水、電解槽排液洗槽廢水、合成爐排污廢水及轉動設備機封水。

　　2.1 螯合樹脂塔再生廢水產生及利用

　　產生原因：離子膜電解工藝要求進電解槽鹽水指標鈣+鎂?0.02mg/L，現有一次鹽水處理工藝處理的一次鹽水指標鈣+鎂mg/L，需要對一次鹽水進行二次精制，該公司采用螯合樹脂對一次鹽水進行二次精制，當螯合樹脂吸附鈣鎂到達飽和時，需要對螯合樹脂進行再生處理，螯合樹脂再生過程分為：水洗1、反洗、酸再生、水洗2、堿再生、水洗3、等待1、鹽水填充、等待2，再生過程中酸再生、水洗2、堿再生、水洗3等步驟產生的廢水無法回收利用。

　　處理措施：對樹脂塔酸再生、水洗2、堿再生、水洗3三步pH值及時進行監測，根據燒堿生產特點，將pH值