高精鍍膜設備系列采用獨有的純離子鍍膜源專利技術，設備腔體結構由裝載腔室+真空鍍膜工藝腔室組合而成。鍍膜工藝系統由純離子鍍膜[PIC)+離子束潔洗(0NBEAM)融合而成。配有高效的電磁掃描系統和過減系統，可以過濾掉大顆粒離子團和原子團，制備的納米薄膜非常致密和光滑，與工件的結合力很強，在均勻性、硬度、摩擦系數、耐沖擊、耐腐蝕性能方面具有獨特優勢。可以制備出光學級Ta-C碳基薄膜，膜層中的正四面體結構(金剛石SP3鍵)可以達到75%以上，其物理化學性質和金剛石極其類似，具有極高的硬度(75GPa),極低的座擦系數(0.1),耐高溫(在氮氣保護環境下可以達到600C以上)等一系列優異特征。使用壽命比傳統的DLC膜層延長幾倍至幾十倍不等,適合光學鏡頭模具,及精密高端產品的鍍膜。

主要應用

> 精密光學 : 光學模壓模具;

>高精機械加工: 精密機械零部件；

> 科研單位( 研究所大學實驗室 )；

> 溫度敏感的基材等。

產品特點

> 低溫鍍膜、高效過濾；

> 專利技術、工藝成熟；

>膜層性能優越: 硬度高、摩擦系數低；

>高精密膜層可大批量高效率生產等。